簡要描述：鈣鈦礦鍍膜設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。
產品型號：廠商性質：生產廠家更新日期：2025-02-11訪 問 量：942
| 功能特點 |
|---|
| 技術參數(shù) | |
|---|---|
| 鍍膜室 | 不銹鋼材料，采用方形前后開門結構，內帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm |
| 真空排氣系統(tǒng) | 采用分子泵+機械泵系統(tǒng) |
| 真空度 | 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa |
| 系統(tǒng)漏率 | ≤1×10-7Pa |
| 蒸發(fā)源 | 安裝在真空室的下底上；有機蒸發(fā)源4個、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，可測溫、控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機蒸發(fā)源4套、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 |
| 樣品架 | 安裝在真空室的上蓋上，可放置Ø120mm的樣品、載玻片，旋轉速度0-30rpm |
| 加熱溫度 | RT-180℃，測溫、控溫 |
| 膜厚控制儀 | 石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999Å |
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